化学分析・環境測定

化学分析・環境測定

最先端の半導体工場で培った分析技術とノウハウで
様々なニーズの微量分析に対応いたします

排水分析や薬液・純水中の金属分析,作業環境測定,半導体関連の分析をお引き受けいたしますので,気軽に御相談ください。
測定はクリーンルーム内で行ないますので試料への汚染が少なく微量分析が可能です。

主な分析の特徴

例えば、次のような分析が可能です。

  • 純水や薬液中の無機・有機不純物をpptオーダーで分析
  • 労働安全衛生法で定められた作業環境測定
  • 材料の組成・不純物分析
  • 半導体ウェーハの表面,膜中,裏面及びスポット分析
  • クリーンルーム等の雰囲気中の無機・有機不純物を幅広い成分について測定

分析事例紹介

主要分析装置

弊社では、クリーンルーム内に分析機器を設置し、様々な分析ニーズに対応いたしております。

装置名 主な分析事例
ICP質量分析装置 (ICP-MS) 薬液中の金属不純物分析
試料表面、母材の金属不純物分析
雰囲気中のB,P濃度分析
偏光ゼーマン原子吸光光度計 (ZAA) 薬液中の金属不純物分析
試料表層、母材の金属不純物分析
プラズマ発光分析装置 (ICP) 半導体ウェーハスパッタ膜の組成分析
材料中の不純物分析
全反射蛍光X線分析装置 (TXRF) 半導体ウェーハ表面の金属不純物分析
イオンクロマトグラフ (ICG) 雰囲気中の微量不純物分析
超純水中の微量不純物分析
陰,陽,重金属イオン,有機酸,アミン
ガスクロマトグラフ質量分析装置 (GC-MS) 雰囲気中の有機物濃度測定
材料表層の有機物分析
ガスクロマトグラフ (P&T-GC) 材料中の揮発有機物分析
純水、地下水中の揮発性有機物測定
顕微蛍光分光光度計 (MFS) 有機物の定性分析
半導体ウェーハ表面残留物の定性分析
フーリエ変換型赤外分光光度計 (FTIR) 有機異物の定性分析
半導体ウェーハの酸化膜、P-Si膜評価
大気圧イオン化質量分析装置 (API-MS) ラインガス中の不純物分析

許認可一覧

  • 作業環境測定機関 茨城県労働局登録 第08-27号
  • 計量証明事業 茨城県計量検定所登録 濃度 第48号

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